“陈总，这台就是我们研发出来的浸润式光刻机。这一台光刻机打破了传统的干式光刻理论，采用湿式以水为媒介，从而让制程大幅度的进行了提升。虽然我们目前的制程水平是在100纳米左右，但我们随时可以进入到65纳米行例。”

“也就是说，一旦我们的浸润式光刻机上马，我们的技术水平将可以和asml比肩。同时，我们也能生产出目前最为顶尖的芯片。”

中心国际一处秘密研究基地，林本坚兴奋的向陈宇做着介绍。

“好，很好。”

看着眼前这一台光刻机，陈宇同样的有些激动。

前世，国人不知道为这样的一台光刻机奋斗了多久。

当然。

这倒不是说前世国人做不出光刻机。

其实光刻机技术国人是掌握的，但要做出达到全球顶尖制程的光刻机，那就不是那么容易的事了。

截止到2021年，前世国内最为顶尖的光刻机制程仅仅只达到90纳米。

但asml已经达到5纳米，3纳米，甚至往2纳米方向进军。

这是几十倍的差距。

同样也是几代水平的差距。

真按这样的差距进行追赶，恐怕得100年。

幸好。

早在之前陈宇就从台积电挖脚了林本坚。

在他的湿式光刻理论的帮助之下，全球第一台浸润式光刻机就此诞生。

“陈总，这台光刻机还不是我们最为先进的，在湿式光刻理论的支持之下，我们的制程在未来还可以大幅度的进行提高。目前全球最高制程水平是65纳米，这已经很难再进步了。但我们却才刚刚开始，未来我们将进入45纳米，28纳米，20纳米，10纳米，甚至是7纳米之例……”

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